Recent Progress in Simple and Cost-Effective Top-Down Lithography for ≈10 nm Scale Nanopatterns: From Edge Lithography to Secondary Sputtering Lithography.
high-aspect-ratio nanopatterning
high-resolution nanopatterning
secondary sputtering lithography
Journal
Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
ISSN: 1521-4095
Titre abrégé: Adv Mater
Pays: Germany
ID NLM: 9885358
Informations de publication
Date de publication:
Sep 2020
Sep 2020
Historique:
received:
30
10
2019
revised:
20
12
2019
pubmed:
4
4
2020
medline:
4
4
2020
entrez:
4
4
2020
Statut:
ppublish
Résumé
The development of a simple and cost-effective method for fabricating ≈10 nm scale nanopatterns over large areas is an important issue, owing to the performance enhancement such patterning brings to various applications including sensors, semiconductors, and flexible transparent electrodes. Although nanoimprinting, extreme ultraviolet, electron beams, and scanning probe litho-graphy are candidates for developing such nanopatterns, they are limited to complicated procedures with low throughput and high startup cost, which are difficult to use in various academic and industry fields. Recently, several easy and cost-effective lithographic approaches have been reported to produce ≈10 nm scale patterns without defects over large areas. This includes a method of reducing the size using the narrow edge of a pattern, which has been attracting attention for the past several decades. More recently, secondary sputtering lithography using an ion-bombardment technique was reported as a new method to create high-resolution and high-aspect-ratio structures. Recent progress in simple and cost-effective top-down lithography for ≈10 nm scale nanopatterns via edge and secondary sputtering techniques is reviewed. The principles, technical advances, and applications are demonstrated. Finally, the future direction of edge and secondary sputtering lithography research toward issues to be resolved to broaden applications is discussed.
Identifiants
pubmed: 32243015
doi: 10.1002/adma.201907101
doi:
Types de publication
Journal Article
Review
Langues
eng
Sous-ensembles de citation
IM
Pagination
e1907101Subventions
Organisme : Ministry of Science, ICT and future Planning
ID : 2018R1A2B3008658
Organisme : Ministry of Science, ICT and future Planning
ID : 2019R1A2C4003950
Organisme : KAIST
Organisme : Ministry of Science and ICT
ID : N11190229
Organisme : Ministry of Science, ICT and Future Planning
ID : 2018R1A2B3008658
Organisme : Ministry of Science, ICT and Future Planning
ID : 2019R1A2C4003950
Informations de copyright
© 2020 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.
Références
S. M. Park, M. P. Stoykovich, R. Ruiz, Y. Zhang, C. T. Black, P. F. Nealey, Adv. Mater. 2007, 19, 607.
S.-J. Jeong, G. Xia, B. H. Kim, D. O. Shin, S.-H. Kwon, S.-W. Kang, S. O. Kim, Adv. Mater. 2008, 20, 1898.
D. E. Angelescu, J. H. Waller, D. H. Adamson, P. Deshpande, S. Y. Chou, R. A. Register, P. M. Chaikin, Adv. Mater. 2004, 16, 1736.
S. H. Park, D. O. Shin, B. H. Kim, D. K. Yoon, K. Kim, S. Y. Lee, S.-H. Oh, S.-W. Choi, S. C. Jeon, S. O. Kim, Soft Matter 2010, 6, 120.
Y. Mai, A. Eisenberg, Chem. Soc. Rev. 2012, 41, 5969.
F. Ferrarese Lupi, T. J. Giammaria, F. G. Volpe, F. Lotto, G. Seguini, B. Pivac, M. Laus, M. Perego, ACS Appl. Mater. Interfaces 2014, 6, 21389.
K. Kwon, J. M. Ok, Y. H. Kim, J. S. Kim, W. B. Jung, S. Y. Cho, H. T. Jung, Nano Lett. 2015, 15, 7552.
H.-S. Moon, J. Y. Kim, H. M. Jin, W. J. Lee, H. J. Choi, J. H. Mun, Y. J. Choi, S. K. Cha, S. H. Kwon, S. O. Kim, Adv. Funct. Mater. 2014, 24, 4343.
T. Wang, J. Zhang, X. Zhang, P. Xue, H. Chen, X. Li, Y. Yu, B. Yang, J. Mater. Chem. C 2013, 1, 1122.
X. Meng, X. Zhang, L. Ye, D. Qiu, Langmuir 2014, 30, 7024.
M. Ramanathan, I. I. S. M. Kilbey, Q. Ji, J. P. Hill, K. Ariga, J. Mater. Chem. 2012, 22, 10389.
J. Kao, P. Bai, V. P. Chuang, Z. Jiang, P. Ercius, T. Xu, Nano Lett. 2012, 12, 2610.
S. Tawfick, M. De Volder, D. Copic, S. J. Park, C. R. Oliver, E. S. Polsen, M. J. Roberts, A. J. Hart, Adv. Mater. 2012, 24, 1628.
M. Ebaid, J.-H. Kang, S.-H. Lim, J.-S. Ha, J. K. Lee, Y.-H. Cho, S.-W. Ryu, Nano Energy 2015, 12, 215.
T. Wang, Z. Jiao, T. Chen, Y. Li, W. Ren, S. Lin, G. Lu, J. Ye, Y. Bi, Nanoscale 2013, 5, 7552.
N. Choksi, D. S. Pickard, M. McCord, R. F. W. Pease, Y. Shroff, Y. Chen, W. Oldham, D. Markle, J. Vac. Sci. Technol. B 1999, 17, 3047.
C. W. Gwyn, J. Vac. Sci. Technol. B 1998, 16, 3142.
T. Haga, H. Takenaka, M. Fukuda, J. Vac. Sci. Technol. B 2000, 18, 2916.
S. S. Harilal, B. O'Shay, M. S. Tillack, Y. Tao, R. Paguio, A. Nikroo, C. A. Back, J. Phys. D: Appl. Phys. 2006, 39, 484.
P. J. Silverman, J. Micro-Nanolithogr., MEMS, MOEMS 2005, 4, 011006.
B. Wu, A. Kumar, J. Vac. Sci. Technol. B 2007, 25, 1743.
Y. Vladimirsky, C. Montcalm, S. Bajt, P. B. Mirkarimi, E. A. Spiller, F. J. Weber, J. A. Folta, Proc. SPIE 1998, 3331, 42.
D. L. Windt, J. Vac. Sci. Technol. B 1994, 12, 3826.
B. Wu, A. Kumar, Appl. Phys. Rev. 2014, 1, 011104.
T. Itani, P. P. Naulleau, E. Hendrickx, P. A. Gargini, K. G. Ronse, T. A. Brunner, H. J. Levinson, Proc. SPIE 2018, 10809, 1080903.
N. Mojarad, J. Gobrecht, Y. Ekinci, Microelectron. Eng. 2015, 143, 55.
T. Niizeki, H. Kubota, Y. Ando, T. Miyazaki, J. Magn. Magn. Mater. 2004, 272-276, 1947.
A. E. Grigorescu, C. W. Hagen, Nanotechnology 2009, 20, 292001.
V. Nandwana, C. Subramani, Y.-C. Yeh, B. Yang, S. Dickert, M. D. Barnes, M. T. Tuominen, V. M. Rotello, J. Mater. Chem. 2011, 21, 16859.
S. Okazaki, Microelectron. Eng. 2015, 133, 23.
Y. Chen, Microelectron. Eng. 2015, 135, 57.
V. U. Desai, J. G. Hartley, N. C. Cady, J. Vac. Sci. Technol. B 2016, 34, 061601.
J. E. E. Baglin, Appl. Surf. Sci. 2012, 258, 4103.
T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. 1975, 12, 1271.
S. J. Ahn, M. Kaholek, W. K. Lee, B. LaMattina, T. H. LaBean, S. Zauscher, Adv. Mater. 2004, 16, 2141.
S. B. Clendenning, S. Aouba, M. S. Rayat, D. Grozea, J. B. Sorge, P. M. Brodersen, R. N. S. Sodhi, Z. H. Lu, C. M. Yip, M. R. Freeman, H. E. Ruda, I. Manners, Adv. Mater. 2004, 16, 215.
C. Enkrich, F. Pérez-Willard, D. Gerthsen, J. F. Zhou, T. Koschny, C. M. Soukoulis, M. Wegener, S. Linden, Adv. Mater. 2005, 17, 2547.
G. J. Zhang, T. Tanii, T. Zako, T. Hosaka, T. Miyake, Y. Kanari, T. Funatsu, I. Ohdomari, Small 2005, 1, 833.
J. F. Dayen, A. Mahmood, D. S. Golubev, I. Roch-Jeune, P. Salles, E. Dujardin, Small 2008, 4, 716.
P. Shi, J. Zhang, H. Y. Lin, P. W. Bohn, Small 2010, 6, 2598.
V. R. Manfrinato, L. Zhang, D. Su, H. Duan, R. G. Hobbs, E. A. Stach, K. K. Berggren, Nano Lett. 2013, 13, 1555.
G. Liu, M. Hirtz, H. Fuchs, Z. Zheng, Small 2019, 15, e1900564.
X. Xu, Q. Yang, K. M. Cheung, C. Zhao, N. Wattanatorn, J. N. Belling, J. M. Abendroth, L. S. Slaughter, C. A. Mirkin, A. M. Andrews, P. S. Weiss, Nano Lett. 2017, 17, 3302.
R. Garcia, A. W. Knoll, E. Riedo, Nat. Nanotechnol. 2014, 9, 577.
P.-C. Chen, X. Liu, J. L. Hedrick, Z. Xie, S. Wang, Q.-Y. Lin, M. C. Hersam, V. P. Dravid, C. A. Mirkin, Science 2016, 352, 1565.
L. Huang, P. C. Chen, M. Liu, X. Fu, P. Gordiichuk, Y. Yu, C. Wolverton, Y. Kang, C. A. Mirkin, Proc. Natl. Acad. Sci. USA 2018, 115, 3764.
X. Liu, S. Guo, C. A. Mirkin, Angew. Chem., Int. Ed. 2003, 42, 4785.
S. Lenhert, P. Sun, Y. Wang, H. Fuchs, C. A. Mirkin, Small 2007, 3, 71.
M. Rolandi, I. Suez, A. Scholl, J. M. Frechet, Angew. Chem., Int. Ed. 2007, 46, 7477.
M. Hirtz, M. K. Brinks, S. Miele, A. Studer, H. Fuchs, L. Chi, Small 2009, 5, 919.
Z. Zheng, W. L. Daniel, L. R. Giam, F. Huo, A. J. Senesi, G. Zheng, C. A. Mirkin, Angew. Chem., Int. Ed. 2009, 48, 7626.
L. Huang, A. B. Braunschweig, W. Shim, L. Qin, J. K. Lim, S. J. Hurst, F. Huo, C. Xue, J. W. Jang, C. A. Mirkin, Small 2010, 6, 1077.
X. Liao, A. B. Braunschweig, Z. Zheng, C. A. Mirkin, Small 2010, 6, 1082.
Z. Xie, X. Zhou, X. Tao, Z. Zheng, Macromol. Rapid Commun. 2012, 33, 359.
Y. Zhou, Z. Xie, K. A. Brown, D. J. Park, X. Zhou, P. C. Chen, M. Hirtz, Q. Y. Lin, V. P. Dravid, G. C. Schatz, Z. Zheng, C. A. Mirkin, Small 2015, 11, 913.
S. Y. Chou, P. R. Krauss, P. J. Renstrom, Science 1996, 272, 85.
M. Li, J. Wang, L. Zhuang, S. Y. Chou, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 673.
S. Y. Chou, C. Keimel, J. Gu, Nature 2002, 417, 835.
C. W. Kuo, J. Y. Shiu, Y. H. Cho, P. Chen, Adv. Mater. 2003, 15, 1065.
F. Hua, Y. Sun, A. Gaur, M. A. Meitl, L. Bilhaut, L. Rotkina, J. Wang, P. Geil, M. shim, J. A. Rogers, Nano Lett. 2004, 4, 2467.
D.-Y. Khang, H. Kang, T.-I. Kim, H. H. Lee, Nano Lett. 2004, 4, 633.
T.-C. Lin, S.-C. Yu, P.-S. Chen, K.-Y. Chi, H.-C. Pan, C.-Y. Chao, Curr. Appl. Phys. 2009, 9, 610.
Z. Liu, D. G. Bucknall, M. G. Allen, Nanotechnology 2011, 22, 225302.
B. Radha, S. H. Lim, M. S. Saifullah, G. U. Kulkarni, Sci. Rep. 2013, 3, 1078.
B. Kwon, J. H. Kim, J. Nanosci. 2016, 2016, 6571297.
A. Pandey, S. Tzadka, D. Yehuda, M. Schvartzman, Soft Matter 2019, 15, 2897.
L. Li, X. Liu, S. Pal, S. Wang, C. K. Ober, E. P. Giannelis, Chem. Soc. Rev. 2017, 46, 4855.
Y. Chen, Appl. Phys. A 2015, 121, 451.
H. Schift, J. Vac. Sci. Technol. B 2008, 26, 458.
C.-C. Yu, H.-L. Chen, Microelectron. Eng. 2015, 132, 98.
A. Santos, M. J. Deen, L. F. Marsal, Nanotechnology 2015, 26, 042001.
R. Ji, W. Lee, R. Scholz, U. Gösele, K. Nielsch, Adv. Mater. 2006, 18, 2593.
Y. Zhao, H. Jansen, M. de Boer, E. Berenschot, D. Bouwes, M. Gironès, J. Huskens, N. Tas, J. Micromech. Microeng. 2010, 20, 095022.
V. Abramova, A. S. Slesarev, J. M. Tour, Nano Lett. 2015, 15, 2933.
V. Abramova, A. S. Slesarev, J. M. Tour, ACS Nano 2013, 7, 6894.
H. J. Jeon, K. H. Kim, Y. K. Baek, D. W. Kim, H. T. Jung, Nano Lett. 2010, 10, 3604.
M. D. Levenson, N. S. Viswanathan, R. A. Simpson, IEEE Trans. Electron Devices 1982, 29, 1828.
Y.-K. Choi, T.-J. King, C. Hu, IEEE Trans. Electron Devices 2002, 49, 436.
J. Hållstedt, P. E. Hellström, Z. Zhang, B. G. Malm, J. Edholm, J. Lu, S. L. Zhang, H. H. Radamson, M. Östling, Microelectron. Eng. 2006, 83, 434.
H. H. Solak, C. Dais, F. Clube, L. Wang, Microelectron. Eng. 2015, 143, 74.
L. E. Dodd, M. C. Rosamond, D. Wood, A. J. Gallant, Micro Nano Lett. 2014, 9, 437.
K. Subannajui, F. Guder, M. Zacharias, Nano Lett. 2011, 11, 3513.
J. W. Jang, Z. Zheng, O. S. Lee, W. Shim, G. Zheng, G. C. Schatz, C. A. Mirkin, Nano Lett. 2010, 10, 4399.
F. Guder, Y. Yang, M. Kruger, G. B. Stevens, M. Zacharias, ACS Appl. Mater. Interfaces 2010, 2, 3473.
J. Maria, V. Malyarchuk, J. White, J. A. Rogers, J. Vac. Sci. Technol. B 2006, 24, 828.
J. Hu, T. Deng, R. G. Beck, R. M. Westervelt, K. D. Maranowski, A. C. Gossard, G. M. Whitesides, Sens. Actuator, A 2000, 86, 122.
H. Ishida, K. Miyatsuji, T. Tanaka, H. Takenaka, H. Furukawa, M. Nishitsuji, A. Tamura, D. Ueda, IEEE Trans. Microwave Theory Tech. 2000, 48, 771.
S. H. Chan, A. K. Wong, E. Y. Lam, Opt. Express 2008, 16, 14746.
J. U. Lee, S. Jeong, S. C. Hong, S. M. Lee, J. Ahn, Proc. SPIE. 2014, 9048, 09481X.
M. K. Kwak, L. J. Guo, in Encyclopedia of Microfluidics and Nanofluidics, (Ed: D. Li), Springer, New York, NY, USA 2015, p. 2702.
J. A. Rogers, J. Vac. Sci. Technol. B 1998, 16, 59.
J. A. Rogers, K. E. Paul, R. J. Jackman, G. M. Whitesides, Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 2658.
T. W. Odom, V. R. Thalladi, J. C. Love, G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 12112.
M. K. Kwak, J. G. Ok, J. Y. Lee, L. J. Guo, Nanotechnology 2012, 23, 344008.
M. D. Huntington, T. W. Odom, Small 2011, 7, 3144.
J. Wu, Y. Liu, Y. Guo, S. Feng, B. Zou, H. Mao, C. H. Yu, D. Tian, W. Huang, F. Huo, Langmuir 2015, 31, 5005.
A. Sundaramurthy, P. J. Schuck, N. R. Conley, D. P. Fromm, G. S. Kino, W. E. Moerner, Nano Lett. 2006, 6, 355.
J. Wu, C. Liow, K. Tao, Y. Guo, X. Wang, J. Miao, ACS Appl. Mater. Interfaces 2016, 8, 16368.
K. Subannajui, F. Guder, J. Danhof, A. Menzel, Y. Yang, L. Kirste, C. Wang, V. Cimalla, U. Schwarz, M. Zacharias, Nanotechnology 2012, 23, 235607.
B. Degroote, R. Rooyackers, T. Vandeweyer, N. Collaert, W. Boullart, E. Kunnen, D. Shamiryan, J. Wouters, J. Van Puymbroeck, A. Dixit, M. Jurczak, Microelectron. Eng. 2007, 84, 609.
J. Hållstedt, P. E. Hellström, H. H. Radamson, Thin Solid Films 2008, 517, 117.
C. Y. Hsiao, C. H. Lin, C. H. Hung, C. J. Su, Y. R. Lo, C. C. Lee, H. C. Lin, F. H. Ko, T. Y. Huang, Y. S. Yang, Biosens. Bioelectron. 2009, 24, 1223.
T. Huynh-Bao, J. Ryckaert, Z. Tokei, A. Mercha, D. Verkest, A. V.-Y. Thean, P. Wambacq, IEEE Trans. Very Large Scale Integr. Syst. 2017, 25, 1669.
Y. Li, J. Choi, Z. Sun, T. P. Russell, K. R. Carter, Nanoscale 2018, 10, 20779.
E. Liu, S. Thibaut, A. Ko, P. Biolsi, C. B. Labelle, R. S. Wise, Proc. SPIE 2019, 10963, 10963R.
X. Liu, X. Deng, P. Sciortino, M. Buonanno, F. Walters, R. Varghese, J. Bacon, L. Chen, N. O'Brien, J. J. Wang, Nano Lett. 2006, 6, 2723.
H. Miyazoe, N. Marchack, R. L. Bruce, Y. Zhu, M. Nakamura, E. Miller, S. Kanakasabapathy, T. Suzuki, A. Ito, H. Matsumoto, S. U. Engelmann, E. A. Joseph, J. Vac. Sci. Technol. B 2018, 36, 032201.
H. Noma, H. Kawata, M. Yasuda, Y. Hirai, J. Sakamoto, J. Vac. Sci. Technol. B 2013, 31, 06FB03.
S. Okada, S. Kobayashi, S. Shimura, M. Enomoto, S. Yoshimura, K. Ito, S. Morikita, R. Gronheid, D. P. Sanders, Proc. SPIE 2019, 10960, 10960P.
G. S. Doerk, H. Gao, L. Wan, J. Lille, K. C. Patel, Y. A. Chapuis, R. Ruiz, T. R. Albrecht, Nanotechnology 2015, 26, 085304.
S. Dhuey, C. Peroz, D. Olynick, G. Calafiore, S. Cabrini, Nanotechnology 2013, 24, 105303.
S. Dallorto, D. Staaks, A. Schwartzberg, X. Yang, K. Y. Lee, I. W. Rangelow, S. Cabrini, D. L. Olynick, Nanotechnology 2018, 29, 405302.
J. Y. Zhang, X. F. Wang, X. D. Wang, Z. C. Fan, Y. Li, A. Ji, F. H. Yang, Nanotechnology 2010, 21, 75303.
J. Zhang, X. Wang, X. Wang, H. Ma, K. Cheng, Z. Fan, Y. Li, A. Ji, F. Yang, Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 213505.
A. K. K. Wong, W.-Y. Jung, V. K. Singh, C.-D. Kim, J.-D. Eom, S.-Y. Cho, S.-M. Jeon, J.-H. Kim, J.-I. Moon, B.-S. Lee, S.-K. Park, Proc. SPIE 2006, 6156, 61561J.
M. Yoshida, K. Kim, J. Kahng, C. Lee, H. Sung, K.-H. Jung, J.-S. Moon, W. Yang, K.-S. Oh, Jpn. J. Appl. Phys. 2009, 48, 04C057.
S. Xin, L. Tsu-Jae King, IEEE Trans. Semicond. Manuf. 2010, 23, 311.
C.-J. Weng, Microelectron. Reliab. 2010, 50, 1951.
H. W. Ra, K. S. Choi, J. H. Kim, Y. B. Hahn, Y. H. Im, Small 2008, 4, 1105.
J. Yeon, Y. J. Lee, D. E. Yoo, K. J. Yoo, J. S. Kim, J. Lee, J. O. Lee, S. J. Choi, G. W. Yoon, D. W. Lee, G. S. Lee, H. C. Hwang, J. B. Yoon, Nano Lett. 2013, 13, 3978.
M.-L. Seol, H. Im, D.-I. Moon, J.-H. Woo, D. Kim, S.-J. Choi, Y.-K. Choi, ACS Nano 2013, 7, 10773.
T. Liu, C.-J. Kim, Science 2014, 346, 1096.
D. C. Bien, H. W. Lee, S. A. M. Badaruddin, Nanoscale Res. Lett. 2012, 7, 288.
F. T. Chen, W.-S. Chen, M.-J. Tsai, T.-K. Ku, J. Micro-Nanolithogr. MEMS MOEMS 2014, 13, 011008.
E. Cheng, H. Zou, Z. Yin, P. Jurčíček, X. Zhang, J. Micromech. Microeng. 2013, 23, 075022.
Y.-K. Choi, J. Zhe, J. Grunes, J. Bokor, G. A. Somorjai, J. Phys. Chem. B 2003, 107, 3340.
J. Sakamoto, H. Noma, N. Fujikawa, H. Kawata, M. Yasuda, Y. Hirai, Microelectron. Eng. 2012, 98, 189.
V. Sriraman, X. Li, N. Singh, S. Lee, IEEE Electron. Device Lett. 2012, 33, 1060.
J. M. McLellan, M. Geissler, Y. Xia, J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 10830.
M. Geissler, P. Chalsani, N. S. Cameron, T. Veres, Small 2006, 2, 760.
M. Geissler, J. M. McLellan, Y. Xia, Nano Lett. 2005, 5, 31.
J.-H. Kim, D.-Y. Khang, Thin Solid Films 2014, 571, 32.
M. T. Zin, H.-L. Yip, N.-Y. Wong, H. Ma, A. K.-Y. Jen, Langmuir 2006, 22, 6346.
D. Ho, J. Zou, B. Zdyrko, K. S. Iyer, I. Luzinov, Nanoscale 2015, 7, 401.
C. M. Bruinink, M. Péter, P. A. Maury, M. de Boer, L. Kuipers, J. Huskens, D. N. Reinhoudt, Adv. Funct. Mater. 2006, 16, 1555.
H.-L. Zhang, D. G. Bucknall, A. Dupuis, Nano Lett. 2004, 4, 1513.
I. Korczagin, S. Golze, M. A. Hempenius, G. J. Vancso, Chem. Mater. 2003, 15, 3663.
X. Yu, Z. Wang, R. Xing, S. Luan, Y. Han, Polymer 2005, 46, 11099.
J. M. Jung, F. Stellacci, H. T. Jung, Adv. Mater. 2007, 19, 4392.
B. Wang, Y. Hong, J. Feng, Y. Gong, C. Gao, Macromol. Rapid Commun. 2007, 28, 567.
M. Bayati, P. Patoka, M. Giersig, E. R. Savinova, Langmuir 2010, 26, 3549.
X. Duan, Y. Zhao, E. Berenschot, N. R. Tas, D. N. Reinhoudt, J. Huskens, Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 2519.
C. Huang, N. Lu, Y. Wang, L. Tian, B. Yang, B. Dong, L. Chi, Langmuir 2010, 26, 9142.
Q. Zhao, B. Leng, L. Y. L. Wu, C. C. Wong, RSC Adv. 2013, 3, 10301.
Y. Chen, Z. Chen, S. Jiang, C. Li, Y. Chen, J. Zhan, X. Kang, F. Jiao, G. Zhang, B. Shen, Cryst. Eng. Commun. 2019, 21, 1794.
S. K. Lee, J. M. Jung, J. S. Lee, H. T. Jung, Langmuir 2010, 26, 14359.
Y. Li, X. Zhang, D. Wang, F. He, C. Ni, L. Chi, J. Colloid Interface Sci. 2015, 458, 300.
Y. Cai, Z. Zhao, J. Chen, T. Yang, P. S. Cremer, ACS Nano 2012, 6, 1548.
K.-H. Lee, S.-M. Kim, H. Jeong, G.-Y. Jung, Soft Matter 2012, 8, 465.
Z. Zhao, Y. Cai, W. S. Liao, P. S. Cremer, Langmuir 2013, 29, 6737.
J.-H. Choi, C.-M. Oh, J.-W. Jang, RSC Adv. 2017, 7, 32058.
R. B. A. Sharpe, B. J. F. Titulaer, E. Peeters, D. Burdinski, J. Huskens, H. J. W. Zandvliet, D. N. Reinhoudt, B. Poelsema, Nano Lett. 2006, 6, 1235.
M. Q. Xue, Y. L. Yang, T. B. Cao, Adv. Mater. 2008, 20, 596.
M. Isasa, E. Villamor, L. Fallarino, O. Idigoras, A. K. Suszka, C. Tollan, A. Berger, L. E. Hueso, F. Casanova, J. Phys. D: Appl. Phys. 2015, 48, 215003.
G. Ulliac, V. Calero, A. Ndao, F. I. Baida, M. P. Bernal, Opt. Mater. 2016, 53, 1.
J. Jeong, T. Endoh, Jpn. J. Appl. Phys. 2017, 56, 04CE09.
H. Le-The, E. Berenschot, R. M. Tiggelaar, N. R. Tas, A. van den Berg, J. C. T. Eijkel, Microsyst. Nanoeng. 2018, 4, 4.
H. S. Jeong, H.-J. Jeon, Y. H. Kim, M. B. Oh, P. Kumar, S.-W. Kang, H.-T. Jung, NPG Asia Mater. 2012, 4, e7.
H.-J. Jeon, H. S. Jeong, Y. H. Kim, W.-B. Jung, J. Y. Kim, H.-T. Jung, ACS Nano 2014, 8, 1204.
W. B. Jung, S. Y. Cho, B. L. Suh, H. W. Yoo, H. J. Jeon, J. Kim, H. T. Jung, Adv. Mater. 2019, 31, e1805343.
B. X. E. Desbiolles, A. Bertsch, P. Renaud, Microsyst. Nanoeng. 2019, 5, 11.
H. J. Jeon, H. W. Yoo, E. H. Lee, S. W. Jang, J. S. Kim, J. K. Choi, H. T. Jung, Nanoscale 2013, 5, 2358.
W. B. Jung, H. S. Jeong, H. J. Jeon, Y. H. Kim, J. Y. Hwang, J. H. Kim, H. T. Jung, Adv. Mater. 2015, 27, 6760.
T. E. Song, C. W. Ahn, H. J. Jeon, Langmuir 2017, 33, 8260.
S.-Y. Cho, H.-J. Jeon, J.-S. Kim, J. M. Ok, H.-T. Jung, Adv. Funct. Mater. 2014, 24, 6939.
S.-i. Chung, P. K. Kim, Y.-w. Kwon, T.-g. Ha, J.-w. Hur, K.-m. Lee, J. Mater. Process. Technol. 2016, 238, 431.
S. I. Chung, P. K. Kim, T. G. Ha, J. T. Han, Nanotechnology 2019, 30, 125301.
S. Jang, H.-J. Jeon, C. J. An, M. L. Jin, H.-T. Jung, J. Mater. Chem. C 2014, 2, 3527.
S. Jang, W. B. Jung, C. Kim, P. Won, S. G. Lee, K. M. Cho, M. L. Jin, C. J. An, H. J. Jeon, S. H. Ko, T. S. Kim, H. T. Jung, Nanoscale 2016, 8, 14257.
S. Jang, C. Kim, J. J. Park, M. L. Jin, S. J. Kim, O. O. Park, T. S. Kim, H. T. Jung, Small 2018, 14, 1702818.
J. Zou, B. Zdyrko, I. Luzinov, C. L. Raston, K. S. Iyer, Chem. Commun. 2012, 48, 1033.
J. Lee, W. Shim, E. Lee, J. S. Noh, W. Lee, Angew. Chem., Int. Ed. 2011, 50, 5301.
R. Kumar, D. Varandani, B. R. Mehta, V. N. Singh, Z. Wen, X. Feng, K. Mullen, Nanotechnology 2011, 22, 275719.
H. W. Yoo, S. Y. Cho, H. J. Jeon, H. T. Jung, Anal. Chem. 2015, 87, 1480.
S. Y. Cho, H. Ahn, K. Park, J. Choi, H. Kang, H. T. Jung, ACS Sens. 2018, 3, 1876.
W. T. Koo, S. Qiao, A. F. Ogata, G. Jha, J. S. Jang, V. T. Chen, I. D. Kim, R. M. Penner, ACS Nano 2017, 11, 9276.
R. M. Penner, Acc. Chem. Res. 2017, 50, 1902.
X. Li, Y. Liu, J. C. Hemminger, R. M. Penner, ACS Nano 2015, 9, 3215.
J. Y. Kim, S. Y. Cho, H. T. Jung, Sensors 2018, 18, 4438.
S. Jang, S. J. Kim, H.-J. Koh, D. H. Jang, S.-Y. Cho, H.-T. Jung, Adv. Funct. Mater. 2017, 27, 1703842.
Y. M. Choi, S.-Y. Cho, D. Jang, H.-J. Koh, J. Choi, C.-H. Kim, H.-T. Jung, Adv. Funct. Mater. 2019, 29, 1808319.
S. Y. Cho, H. W. Yoo, J. Y. Kim, W. B. Jung, M. L. Jin, J. S. Kim, H. J. Jeon, H. T. Jung, Nano Lett. 2016, 16, 4508.
S. Y. Cho, D. Jang, H. Kang, H. J. Koh, J. Choi, H. T. Jung, Anal. Chem. 2019, 91, 6850.
A. Menzel, R. J. Gubeli, F. Guder, W. Weber, M. Zacharias, Lab Chip 2013, 13, 4173.
B. X. E. Desbiolles, E. de Coulon, A. Bertsch, S. Rohr, P. Renaud, Nano Lett. 2019, 19, 6173.
K. Subannajui, A. Menzel, F. Güder, Y. Yang, K. Schumann, X. Lu, M. Zacharias, Adv. Funct. Mater. 2013, 23, 191.
R. Hensel, R. Helbig, S. Aland, H. G. Braun, A. Voigt, C. Neinhuis, C. Werner, Langmuir 2013, 29, 1100.
R. Hensel, C. Neinhuis, C. Werner, Chem. Soc. Rev. 2016, 45, 323.
R. Hensel, A. Finn, R. Helbig, H. G. Braun, C. Neinhuis, W. J. Fischer, C. Werner, Adv. Mater. 2014, 26, 2029.
R. Helbig, J. Nickerl, C. Neinhuis, C. Werner, PLoS One 2011, 6, e25105.
R. Hensel, R. Helbig, S. Aland, A. Voigt, C. Neinhuis, C. Werner, NPG Asia Mater. 2013, 5, e37.
J. Nickerl, M. Tsurkan, R. Hensel, C. Neinhuis, C. Werner, J. R. Soc., Interface 2014, 11, 20140619.
G.-T. Yun, W.-B. Jung, M. S. Oh, G. M. Jang, J. Baek, N. I. Kim, S. G. Im, H.-T. Jung, Sci. Adv. 2018, 4, eaat4978.
J. Kang, H.-J. Choi, F. Ren, J. Ao, H. Li, Y. Li, W. Du, K. Zhou, H. Tan, D. Huh, P. Li, M. Liang, S. Gao, C. Tang, X. Yi, H. Lee, Z. Liu, Jpn. J. Appl. Phys. 2019, 58, 081001.
M. Zhang, D. J. Bechstein, R. J. Wilson, S. X. Wang, Nano Lett. 2014, 14, 333.
J. Y. Kim, K. Nayani, H. S. Jeong, H. J. Jeon, H. W. Yoo, E. H. Lee, J. O. Park, M. Srinivasarao, H. T. Jung, Phys. Chem. Chem. Phys. 2016, 18, 10362.
H. J. Kim, W.-B. Jung, H. S. Jeong, H.-T. Jung, J. Mater. Chem. C 2017, 5, 12241.
H. J. Jeon, J. Y. Kim, W. B. Jung, H. S. Jeong, Y. H. Kim, D. O. Shin, S. J. Jeong, J. Shin, S. O. Kim, H. T. Jung, Adv. Mater. 2016, 28, 8439.
K. Park, W. B. Jung, K. Kwon, O. D. Lavrentovich, H. T. Jung, Adv. Funct. Mater. 2019, 29, 1901876.
H. J. Jeon, E. H. Lee, H. W. Yoo, K. H. Kim, H. T. Jung, Nanoscale 2014, 6, 5953.
J.-S. Kim, H.-J. Jeon, H.-W. Yoo, Y.-K. Baek, K. H. Kim, D. W. Kim, H.-T. Jung, Adv. Funct. Mater. 2014, 24, 841.
S. Y. Cho, H. J. Jeon, H. W. Yoo, K. M. Cho, W. B. Jung, J. S. Kim, H. T. Jung, Nano Lett. 2015, 15, 7273.