Two-Dimensional Functionalized Ultrathin Semi-Insulating CaF

2D materials CaF2 electronic decoupling insulating layer silicon

Journal

ACS applied materials & interfaces
ISSN: 1944-8252
Titre abrégé: ACS Appl Mater Interfaces
Pays: United States
ID NLM: 101504991

Informations de publication

Date de publication:
01 Jul 2020
Historique:
pubmed: 4 6 2020
medline: 4 6 2020
entrez: 4 6 2020
Statut: ppublish

Résumé

The ability to precisely control the electronic coupling/decoupling of adsorbates from surfaces is an essential goal. It is important for fundamental studies not only in surface science but also in several applied domains including, for example, miniaturized molecular electronic or for the development of various devices such as nanoscale biosensors or photovoltaic cells. Here, we provide atomic-scale experimental and theoretical investigations of a semi-insulating layer grown on a silicon surface via its epitaxy with CaF

Identifiants

pubmed: 32490659
doi: 10.1021/acsami.0c06631
doi:

Types de publication

Journal Article

Langues

eng

Sous-ensembles de citation

IM

Pagination

29661-29670

Auteurs

Eric Duverger (E)

Institut FEMTO-ST, Univ. Bourgogne Franche-Comté, CNRS, 15B avenue des Montboucons, F-25030 Besançon, France.

Anne-Gaëlle Boyer (AG)

Institut de Chimie Moléculaire et des Matériaux d'Orsay (ICMMO), CNRS, Univ. Paris Sud, Université Paris-Saclay, F-91405 Orsay, France.

Hélène Sauriat-Dorizon (H)

Institut de Chimie Moléculaire et des Matériaux d'Orsay (ICMMO), CNRS, Univ. Paris Sud, Université Paris-Saclay, F-91405 Orsay, France.

Philippe Sonnet (P)

Institut de Science des Matériaux de Mulhouse, Université de Haute Alsace, CNRS, IS2M UMR 7361, 68057 Mulhouse, France.
Université de Strasbourg, F-67000 Strasbourg, France.

Régis Stephan (R)

Institut de Science des Matériaux de Mulhouse, Université de Haute Alsace, CNRS, IS2M UMR 7361, 68057 Mulhouse, France.
Université de Strasbourg, F-67000 Strasbourg, France.

Marie-Christine Hanf (MC)

Institut de Science des Matériaux de Mulhouse, Université de Haute Alsace, CNRS, IS2M UMR 7361, 68057 Mulhouse, France.
Université de Strasbourg, F-67000 Strasbourg, France.

Damien Riedel (D)

Institut des Sciences Moléculaires d'Orsay (ISMO), CNRS, Univ. Paris Sud, Université Paris-Saclay, F-91405 Orsay, France.

Classifications MeSH