Atomic Layer Deposited Ti
Ti2O3
atomic layer deposition
corundum structure
insulator-metal transition
thin films
Journal
Chemphyschem : a European journal of chemical physics and physical chemistry
ISSN: 1439-7641
Titre abrégé: Chemphyschem
Pays: Germany
ID NLM: 100954211
Informations de publication
Date de publication:
18 May 2022
18 May 2022
Historique:
revised:
22
03
2022
received:
27
12
2021
pubmed:
26
3
2022
medline:
26
3
2022
entrez:
25
3
2022
Statut:
ppublish
Résumé
Ti
Identifiants
pubmed: 35332645
doi: 10.1002/cphc.202100910
doi:
Types de publication
Journal Article
Langues
eng
Sous-ensembles de citation
IM
Pagination
e202100910Subventions
Organisme : JNCASR
Organisme : CeNS
Organisme : DST
Informations de copyright
© 2022 Wiley-VCH GmbH.
Références
P. V. Shvets, D. Caffrey, K. Fleischer, I. Shvets, K. O′Neill, G. S. Duesberg, A. N. Vinichenko, K. Y. Maksimova, A. Y. Goikhman, Thin Solid Films 2020, 694, 137642.
Y. Yoshimatsu, H. Kurokawa, K. Horiba, H. Kumigashira, A. Ohtomo, APL Mater. 2018, 6, 101101.
Y. Li, Y. Weng, J. Zhang, J. Ding, Y. Zhu, Q. Wang, Y. Yang, Y. Cheng, Q. Zhang, P. Li, J. Lin, J. W. Chen, Y. Han, X. Zhang, L. Chen, X. Chen, J. Chen, S. Dong, X. Chen, T. Wu, NPG Asia Mater. 2018, 10, 522.
M. M. Abdel-Aziz, I. S. Yahia, L. A. Wahab, M. Fadel, M. A. Afifi, Appl. Surf. Sci. 2006, 252, 8163.
J. R. Smith, F. C. Walsh, J. Appl. Electrochem. 1998, 28, 1021.
A. Kitada, G. Hasegawa, Y. Kobayashi, K. Kanamori, K. Nakanishi, H. Kageyama, J. Am. Chem. Soc. 2012, 134, 10894.
H. Ueda, K. Kitazawa, H. Takagi, T. Matsumoto, J. Phys. Soc. Jpn. 2002, 71, 1506.
F. J. Morin, Phys. Rev. Lett. 1959, 3, 34.
C. E. Rice, W. R. Robinson, Acta Crystallogr. Sect. B 1977, 33, 1342.
L. K. Keys, L. Mulay, Phys. Rev. 1967, 154, 453.
R. M. Moon, T. Riste, W. C. Koehler, S. C. Abrahams, J. Appl. Phys. 1969, 40, 1445.
S. C. Abrahams, Phys. Rev. 1963, 130, 2230.
P. D. Dernier, J. Phys. Chem. Solids 1970, 31, 2569.
J. B. Goodenough, Phys. Rev. 1960, 117, 1442.
L. L. Van Zandt, J. M. Honig, J. B. Goodenough, J. Appl. Phys. 1968, 39, 594.
L. F. Mattheiss, J. Phys. Condens. Matter 1996, 8, 5987.
V. Eyert, U. Schwingenschlögl, U. Eckern, Europhys. Lett. 2005, 70, 782.
C. N. R. Rao, R. E. Loehman, J. M. Honig, Phys. Lett. A 1968, 27, 271.
A. M. Shaikh, M. A. Viswamitra, C. N. R. Rao, Curr. Sci. 1977, 46, 431.
S. J. Tao, C. N. R. Rao, Z. Naturforsch. A. 1977, 32a, 1331.
M. Radecka, A. Trenczek-Zajac, K. Zakrzewska, M. Rekas M, J. Power Sources 2007, 173, 816.
S. Andersson, B. Collén, U. Kuylenstierna, A. Magnéli, H. Pestmalis, S. Asbrink, Acta Chem. Scand. 1957, 11, 1641.
M. Toyoda, T. Yano, B. Tryba, S. Mozia, T. Tsumura, M. Inagaki, Appl. Catal. B 2009, 88, 160.
L. R. Grabstanowicz, S. Gao, T. Li, R. M. Rickard, T. Rajh, D. J. Liu, T. Xu, Inorg. Chem. 2013, 52, 3884.
W. M. Shah, Y. Zhu, X. Fan, J. Zhao, Y. Li, S. Asim, C. Wang, Sci. Rep. 2015, 5, 15804.
A. Teleki, S. E. Pratsinis, Phys. Chem. Chem. Phys. 2009, 11, 3742.
D. Nishio-Hamane, M. Katagiri, K. A. A. Niwa, A. Sano-Furukawa, T. Okada, T. Yagi, High Pressure Res. 2009, 29, 379.
S. V. Ovsyannikov, X. Wu, V. V. Shchennikov, A. E. Karkin, N. Dubrovinskaia, G. Garbarino, L. Dubrovinsky, J. Phys. Condens. Matter. 2010, 22, 375402.
Y. Li, Y. Weng, X. Yin, X. Yu, S. R. S. Kumar, N. Wehbe, H. Wu, H. N. Alshareef, S. J. Pennycook, M. B. H. Breese, J. Chen, S. Dong, T. Wu, Adv. Funct. Mater. 2018, 28, 1705657.
P. Shvets, K. Maksimova, M. Demin, O. Dikaya, A. Goikhman, Phys. Condens. Matter 2017, 513, 15.
G. S. Chen, C. C. Lee, H. Niu, W. Huang, R. Jann, T. Schütte, Thin Solid Films 2008, 516, 8473.
E. C. Fredriksson, J. O. Carlsson, Surf. Coat. Technol. 1995, 73, 160.
M. N. Simcock, Surf. Interface Anal. 2006, 38, 1122.
M. Uchida, J. Fujioka, Y. Onose, Y. Tokura, F. J. Morin, Phys. Rev. Lett. 2008, 101, 8.
M. G. Steven, Chem. Rev. 2010, 110, 111.
K. Vasu, M. B. Sreedhara, J. Ghatak, C. N. R. Rao, ACS Appl. Mater. Interfaces 2016, 8, 7897.
R. Hussin, K. L. Choy, X. Hou, Adv. Mater. Res. 2016, 1133, 352.
V. Pore, T. Kivela, M. Ritala, M. Leskelä, Dalton Trans. 2008, 45, 6467.
J. P. Klesko, R. Rahman, A. Dangerfield, C. E. Nanayakkara, T. L'Esperance, D. F. Moser, L. F. Peña, E. C. Mattson, C. L. Dezelah, R. K. Kanjolia, Y. J. Chabal, Chem. Mater. 2018, 30, 970.
V. Dang, H. Parala, J. H. Kim, K. Xu, N. B. Srinivasan, E. Edengeiser, M. Havenith, A. D. Wieck, T. D. Arcos, R. A. Fischer, A. Devi, Phys. Status Solidi A 2014, 211, 416.
N. G. Kubala, P. C. Rowlette, C. A. Wolden, J. Phys. Chem. C 2009, 113, 16307.
Q. Xie, Y. Jiang, J. Appl. Phys. 2007, 102, 083521.
R. Ciancio, E. Carlino, G. Rossi, C. Aruta, U. U. Scotti di, A. Vittadini, A. Selloni, Phys. Rev. B: Condens. Matter Mater. Phys. 2012, 86, 104110.
Y. Li, Z. G. Yu, L. Wang, Y. Weng, C. S. Tang, X. Yin, K. Han, H. Wu, X. Yu, L. M. Wong, D. Wan, X. R. Wang, J. Chai, Y. W. Zhang, S. Wang, J. Wang, A. T. S. Wee, M. B. H. Breese, S. J. Pennycook, T. Venkatesan, S. Dong, J. M. Xue, J. Chen, Nat. Commun. 2019, 10, 3149.
L. K. Richard, V. E. Henrich, Surf. Sci. Spectra 1998, 5, 179.
L. K. Richard, V. E. Henrich, Surf. Sci. Spectra 1998, 5, 182.
T. Luttrell, S. Halpegamage, E. Sutter, M. Batzill, Thin Solid Films 2014, 564, 146.