Patterned Growth of Transition Metal Dichalcogenide Monolayers and Multilayers for Electronic and Optoelectronic Device Applications.
2D materials
area selective growth
chemical vapor deposition
patterning
soft lithography
transition metal dichalcogenides
Journal
Small methods
ISSN: 2366-9608
Titre abrégé: Small Methods
Pays: Germany
ID NLM: 101724536
Informations de publication
Date de publication:
Sep 2022
Sep 2022
Historique:
revised:
14
07
2022
received:
09
03
2022
pubmed:
13
8
2022
medline:
13
8
2022
entrez:
12
8
2022
Statut:
ppublish
Résumé
A simple, large area, and cost-effective soft lithographic method is presented for the patterned growth of high-quality 2D transition metal dichalcogenides (TMDs). Initially, a liquid precursor (Na
Identifiants
pubmed: 35957515
doi: 10.1002/smtd.202200300
doi:
Types de publication
Journal Article
Langues
eng
Sous-ensembles de citation
IM
Pagination
e2200300Subventions
Organisme : Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG)
ID : CRC 1375 NOA
Organisme : Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG)
ID : SPP2244
Organisme : Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG)
ID : TU149/16-1
Organisme : European Union's Horizon 2020
Organisme : DFG research and innovation program FLAG-ERA
ID : TU149/9-1
Organisme : European Union
Organisme : European Social Funds, and the Federal State of Thuringia
ID : ID 2018FGR00088
Organisme : Federal Ministry of Education and Science of Germany
ID : ID 13XP5053A
Organisme : Bundesministerium für Bildung und Forschung
ID : 13XP5053A
Organisme : Deutsche Forschungsgemeinschaft
ID : TU149/9-1
Informations de copyright
© 2022 The Authors. Small Methods published by Wiley-VCH GmbH.
Références
Z. Cai, B. Liu, X. Zou, H.-M. Cheng, Chem. Rev. 2018, 118, 6091.
E. Najafidehaghani, Z. Gan, A. George, T. Lehnert, G. Q. Ngo, C. Neumann, T. Bucher, I. Staude, D. Kaiser, T. Vogl, U. Hübner, U. Kaiser, F. Eilenberger, A. Turchanin, Adv. Funct. Mater. 2021, 31, 2101086.
A. Nourbakhsh, A. Zubair, R. N. Sajjad, A. K. G. Tavakkoli, W. Chen, S. Fang, X. Ling, J. Kong, M. S. Dresselhaus, E. Kaxiras, K. K. Berggren, D. Antoniadis, T. Palacios, Nano Lett. 2016, 16, 7798.
O. Lopez-Sanchez, D. Lembke, M. Kayci, A. Radenovic, A. Kis, Nat. Nanotechnol. 2013, 8, 497.
F. J. F. Löchner, A. George, K. Koshelev, T. Bucher, E. Najafidehaghani, A. Fedotova, D.-Y. Choi, T. Pertsch, I. Staude, Y. Kivshar, A. Turchanin, F. Setzpfandt, ACS Photonics 2021, 8, 218.
V. K. Sangwan, H.-S. Lee, H. Bergeron, I. Balla, M. E. Beck, K.-S. Chen, M. C. Hersam, Nature 2018, 554, 500.
D. Sarkar, W. Liu, X. Xie, A. C. Anselmo, S. Mitragotri, K. Banerjee, ACS Nano 2014, 8, 3992.
a) A. Di Bartolomeo, A. Pelella, F. Urban, A. Grillo, L. Iemmo, M. Passacantando, X. Liu, F. Giubileo, Adv. Electron. Mater. 2020, 6, 2000094;
b) A. Pelella, A. Grillo, F. Urban, F. Giubileo, M. Passacantando, E. Pollmann, S. Sleziona, M. Schleberger, A. Di Bartolomeo, Adv. Electron. Mater. 2021, 7, 2000838.
E. Cha, M. D. Patel, J. Park, J. Hwang, V. Prasad, K. Cho, W. Choi, Nat. Nanotechnol. 2018, 13, 337.
A. George, C. Neumann, D. Kaiser, R. Mupparapu, T. Lehnert, U. Hübner, Z. Tang, A. Winter, U. Kaiser, I. Staude, A. Turchanin, J. Phys. Mater. 2019, 2, 016001.
G. Q. Ngo, A. George, R. T. K. Schock, A. Tuniz, E. Najafidehaghani, Z. Gan, N. C. Geib, T. Bucher, H. Knopf, S. Saravi, C. Neumann, T. Lühder, E. P. Schartner, S. C. Warren-Smith, H. Ebendorff-Heidepriem, T. Pertsch, M. A. Schmidt, A. Turchanin, F. Eilenberger, Adv. Mater. 2020, 32, 2003826.
S. Shree, A. George, T. Lehnert, C. Neumann, M. Benelajla, C. Robert, X. Marie, K. Watanabe, T. Taniguchi, U. Kaiser, B. Urbaszek, A. Turchanin, 2D Mater. 2019, 7, 015011.
Y. Guo, P.-C. Shen, C. Su, A.-Y. Lu, M. Hempel, Y. Han, Q. Ji, Y. Lin, E. Shi, E. McVay, L. Dou, D. A. Muller, T. Palacios, J. Li, X. Ling, J. Kong, Proc. Natl. Acad. Sci. USA 2019, 116, 3437.
Y. Li, S. Hao, J. G. DiStefano, A. A. Murthy, E. D. Hanson, Y. Xu, C. Wolverton, X. Chen, V. P. Dravid, ACS Nano 2018, 12, 8970.
F. Lu, A. Karmakar, S. Shahi, E. Einarsson, RSC Adv. 2017, 7, 37310.
a) S. Li, Y.-C. Lin, X.-Y. Liu, Z. Hu, J. Wu, H. Nakajima, S. Liu, T. Okazaki, W. Chen, T. Minari, Y. Sakuma, K. Tsukagoshi, K. Suenaga, T. Taniguchi, M. Osada, Nanoscale 2019, 11, 16122;
b) M. Kim, J. Seo, J. Kim, J. S. Moon, J. Lee, J.-H. Kim, J. Kang, H. Park, ACS Nano 2021, 15, 3038.
K. Chen, Z. Chen, X. Wan, Z. Zheng, F. Xie, W. Chen, X. Gui, H. Chen, W. Xie, J. Xu, Adv. Mater. 2017, 29, 1700704.
A. Michail, J. Parthenios, D. Anestopoulos, C. Galiotis, M. Christian, L. Ortolani, V. Morandi, K. Papagelis, 2D Mater. 2018, 5, 035035.
a) A. S. George, Z. Mutlu, R. Ionescu, R. J. Wu, J. S. Jeong, H. H. Bay, Y. Chai, K. A. Mkhoyan, M. Ozkan, C. S. Ozkan, Adv. Funct. Mater. 2014, 24, 7461;
b) Y. R. Lim, J. K. Han, Y. Yoon, J.-B. Lee, C. Jeon, M. Choi, H. Chang, N. Park, J. H. Kim, Z. Lee, W. Song, S. Myung, S. S. Lee, K.-S. An, J.-H. Ahn, J. Lim, Adv. Mater. 2019, 31, 1901405.
S. A. Veldhuis, A. George, M. Nijland, J. E. ten Elshof, Langmuir 2012, 28, 15111.
E. Kim, Y. Xia, G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 5722.
M. Nijland, A. George, S. Thomas, E. P. Houwman, J. Xia, D. H. A. Blank, G. Rijnders, G. Koster, J. E. ten Elshof, Adv. Funct. Mater. 2014, 24, 6853.
X. Wan, X. Miao, J. Yao, S. Wang, F. Shao, S. Xiao, R. Zhan, K. Chen, X. Zeng, X. Gu, J. Xu, Adv. Mater. 2021, 33, 2100260.
F. Bonaccorso, A. Bartolotta, J. N. Coleman, C. Backes, Adv. Mater. 2016, 28, 6136.
A. Blümel, A. Klug, S. Eder, U. Scherf, E. Moderegger, E. J. W. List, Org. Electron. 2007, 8, 389.
R. S. Kane, S. Takayama, E. Ostuni, D. E. Ingber, G. M. Whitesides, Biomaterials 1999, 20, 2363.
J. V. Pondick, J. M. Woods, J. Xing, Y. Zhou, J. J. Cha, ACS Appl. Nano Mater. 2018, 1, 5655.
J. Xu, D. Ho, Chem. Mater. 2021, 33, 3249.
E. K. Kazenas, Y. V. Tsvetkov, G. K. Astakhova, V. A. Volchenkova, O. A. Ovchinnikova, Russ. Metall. (Met.) 2010, 2010, 389.
S. Li, Y.-C. Lin, W. Zhao, J. Wu, Z. Wang, Z. Hu, Y. Shen, D.-M. Tang, J. Wang, Q. Zhang, H. Zhu, L. Chu, W. Zhao, C. Liu, Z. Sun, T. Taniguchi, M. Osada, W. Chen, Q.-H. Xu, A. T. S. Wee, K. Suenaga, F. Ding, G. Eda, Nat. Mater. 2018, 17, 535.
W. Wang, H. Shu, D. Zhou, J. Wang, X. Chen, Nanotechnology 2020, 31, 335601.
L. Huang, Q. H. Thi, F. Zheng, X. Chen, Y. W. Chu, C.-S. Lee, J. Zhao, T. H. Ly, J. Am. Chem. Soc. 2020, 142, 13130.
D. R. Stull, Ind. Eng. Chem. Res. 1947, 39, 517.
C. Lee, H. Yan, L. E. Brus, T. F. Heinz, J. Hone, S. Ryu, ACS Nano 2010, 4, 2695.
P. Soubelet, A. E. Bruchhausen, A. Fainstein, K. Nogajewski, C. Faugeras, Phys. Rev. B 2016, 93, 155407.
N. Salazar, I. Beinik, J. V. Lauritsen, Phys. Chem. Chem. Phys. 2017, 19, 14020.
J. Yang, Z. Wang, F. Wang, R. Xu, J. Tao, S. Zhang, Q. Qin, B. Luther-Davies, C. Jagadish, Z. Yu, Y. Lu, Light: Sci. Appl. 2016, 5, e16046.
a) T. Vogl, G. Campbell, B. C. Buchler, Y. Lu, P. K. Lam, ACS Photonics 2018, 5, 2305;
b) T. Vogl, K. Sripathy, A. Sharma, P. Reddy, J. Sullivan, J. R. Machacek, L. Zhang, F. Karouta, B. C. Buchler, M. W. Doherty, Y. Lu, P. K. Lam, Nat. Commun. 2019, 10, 1202.
a) Y.-H. Chang, W. Zhang, Y. Zhu, Y. Han, J. Pu, J.-K. Chang, W.-T. Hsu, J.-K. Huang, C.-L. Hsu, M.-H. Chiu, T. Takenobu, H. Li, C.-I. Wu, W.-H. Chang, A. T. S. Wee, L.-J. Li, ACS Nano 2014, 8, 8582;
b) A. O. A. Tanoh, J. Alexander-Webber, Y. Fan, N. Gauriot, J. Xiao, R. Pandya, Z. Li, S. Hofmann, A. Rao, Nanoscale Adv. 2021, 3, 4216.
a) L. M. Malard, T. V. Alencar, A. P. M. Barboza, K. F. Mak, A. M. de Paula, Phys. Rev. B 2013, 87, 201401;
b) N. Kumar, S. Najmaei, Q. Cui, F. Ceballos, P. M. Ajayan, J. Lou, H. Zhao, Phys. Rev. B 2013, 87, 161403.
a) S. Najmaei, X. Zou, D. Er, J. Li, Z. Jin, W. Gao, Q. Zhang, S. Park, L. Ge, S. Lei, J. Kono, V. B. Shenoy, B. I. Yakobson, A. George, P. M. Ajayan, J. Lou, Nano Lett. 2014, 14, 1354;
b) A. George, M. V. Fistul, M. Gruenewald, D. Kaiser, T. Lehnert, R. Mupparapu, C. Neumann, U. Hübner, M. Schaal, N. Masurkar, L. M. R. Arava, I. Staude, U. Kaiser, T. Fritz, A. Turchanin, NPJ 2D Mater. Appl. 2021, 5, 15.
Y.-H. Lee, X.-Q. Zhang, W. Zhang, M.-T. Chang, C.-T. Lin, K.-D. Chang, Y.-C. Yu, J. T.-W. Wang, C.-S. Chang, L.-J. Li, T.-W. Lin, Adv. Mater. 2012, 24, 2320.
a) C. Chen, H. Qiao, S. Lin, C. Man Luk, Y. Liu, Z. Xu, J. Song, Y. Xue, D. Li, J. Yuan, W. Yu, C. Pan, S. Ping Lau, Q. Bao, Sci. Rep. 2015, 5, 11830;
b) S. Li, X. Chen, F. Liu, Y. Chen, B. Liu, W. Deng, B. An, F. Chu, G. Zhang, S. Li, X. Li, Y. Zhang, ACS Appl. Mater. Interfaces 2019, 11, 11636.
V. K. Sangwan, D. Jariwala, I. S. Kim, K.-S. Chen, T. J. Marks, L. J. Lauhon, M. C. Hersam, Nat. Nanotechnol. 2015, 10, 403.
L. Chua, IEEE Trans. Circuit Theory 1971, 18, 507.
a) S. Ghatak, A. N. Pal, A. Ghosh, ACS Nano 2011, 5, 7707;
b) Y. Guo, X. Wei, J. Shu, B. Liu, J. Yin, C. Guan, Y. Han, S. Gao, Q. Chen, Appl. Phys. Lett. 2015, 106, 103109.
a) S. Gupta, P. Kumar, T. Paul, A. van Schaik, A. Ghosh, C. S. Thakur, Sci. Rep. 2019, 9, 15604;
b) J. Yuan, S. E. Liu, A. Shylendra, W. A. Gaviria Rojas, S. Guo, H. Bergeron, S. Li, H.-S. Lee, S. Nasrin, V. K. Sangwan, A. R. Trivedi, M. C. Hersam, Nano Lett. 2021, 21, 6432.