Selective Removal of Gold: N-Heterocyclic Carbenes as Positive Etch Resists on Planar Gold Surfaces.

N-heterocyclic carbenes microcontact printing nanotechnology self-assembly wet etching

Journal

ACS applied materials & interfaces
ISSN: 1944-8252
Titre abrégé: ACS Appl Mater Interfaces
Pays: United States
ID NLM: 101504991

Informations de publication

Date de publication:
02 Aug 2023
Historique:
medline: 21 7 2023
pubmed: 21 7 2023
entrez: 21 7 2023
Statut: ppublish

Résumé

N-Heterocyclic carbene (NHC)-modified planar gold surfaces (NHC@Au) were found to be more susceptible toward wet chemical etching than undecorated surface areas. Site-selective decoration of NHCs on Au was achieved by microcontact printing (μCP) of the NHC precursors 1,3-bis(diisopropylphenyl)imidazol-3-ium hydrogen carbonate (IPr(H)[HCO

Identifiants

pubmed: 37477567
doi: 10.1021/acsami.3c01046
doi:

Types de publication

Journal Article

Langues

eng

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IM

Pagination

36831-36838

Auteurs

Florian Bosse (F)

Organisch-Chemisches Institut and Center for Soft Nanoscience Westfälische Wilhelms-Universität Münster Corrensstraße 36, 48149 Münster, Germany.

Christian Gutheil (C)

Organisch-Chemisches Institut and Center for Soft Nanoscience Westfälische Wilhelms-Universität Münster Corrensstraße 36, 48149 Münster, Germany.

D Thao Nguyen (DT)

Organisch-Chemisches Institut and Center for Soft Nanoscience Westfälische Wilhelms-Universität Münster Corrensstraße 36, 48149 Münster, Germany.

Matthias Freitag (M)

Organisch-Chemisches Institut and Center for Soft Nanoscience Westfälische Wilhelms-Universität Münster Corrensstraße 36, 48149 Münster, Germany.

Mowpriya Das (M)

Organisch-Chemisches Institut and Center for Soft Nanoscience Westfälische Wilhelms-Universität Münster Corrensstraße 36, 48149 Münster, Germany.

Bonnie J Tyler (BJ)

Physikalisches Institut and Center for Soft Nanoscience Westfälische Wilhelms-Universität Münster Wilhelm-Klemm-Straße 10, 48149 Münster, Germany.

Thorsten Adolphs (T)

Physikalisches Institut and Center for Soft Nanoscience Westfälische Wilhelms-Universität Münster Wilhelm-Klemm-Straße 10, 48149 Münster, Germany.

Andreas H Schäfer (AH)

nanoAnalytics GmbH Heisenbergstraße 11, 48149 Münster, Germany.

Heinrich F Arlinghaus (HF)

Physikalisches Institut and Center for Soft Nanoscience Westfälische Wilhelms-Universität Münster Wilhelm-Klemm-Straße 10, 48149 Münster, Germany.

Frank Glorius (F)

Organisch-Chemisches Institut and Center for Soft Nanoscience Westfälische Wilhelms-Universität Münster Corrensstraße 36, 48149 Münster, Germany.

Bart Jan Ravoo (BJ)

Organisch-Chemisches Institut and Center for Soft Nanoscience Westfälische Wilhelms-Universität Münster Corrensstraße 36, 48149 Münster, Germany.

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