From Precursor Chemistry to Gas Sensors: Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition Process Engineering for Zinc Oxide Layers from a Nonpyrophoric Zinc Precursor for Gas Barrier and Sensor Applications.
atomic layer deposition
gas barrier layers
gas sensors
zinc oxide
zinc precursors
Journal
Small (Weinheim an der Bergstrasse, Germany)
ISSN: 1613-6829
Titre abrégé: Small
Pays: Germany
ID NLM: 101235338
Informations de publication
Date de publication:
Jun 2020
Jun 2020
Historique:
received:
21
12
2019
revised:
31
03
2020
accepted:
02
04
2020
pubmed:
30
4
2020
medline:
30
4
2020
entrez:
30
4
2020
Statut:
ppublish
Résumé
The identification of bis-3-(N,N-dimethylamino)propyl zinc ([Zn(DMP)
Identifiants
pubmed: 32346997
doi: 10.1002/smll.201907506
doi:
Types de publication
Journal Article
Langues
eng
Sous-ensembles de citation
IM
Pagination
e1907506Subventions
Organisme : European Funds for Regional Development
ID : EFRE-0800672-FunALD
Organisme : Deutsche Forschungsgemeinschaft
ID : SFB-TR 87
Informations de copyright
© 2020 The Authors. Published by WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.
Références
Ü. Özgür, Y. I. Alivov, C. Liu, A. Teke, M. A. Reshchikov, S. Doğan, V. Avrutin, S.-J. Cho, H. Morkoç, J. Appl. Phys. 2005, 98, 041301.
J.-F. Chien, H.-Y. Liao, S.-F. Yu, R.-M. Lin, M. Shiojiri, J.-J. Shyue, M.-J. Chen, ACS Appl. Mater. Interfaces 2013, 5, 227.
J. Yang, J. K. Park, S. Kim, W. Choi, S. Lee, H. Kim, Phys. Status Solidi A 2012, 209, 2087.
Y. Kawamura, M. Tani, N. Hattori, N. Miyatake, M. Horita, Y. Ishikawa, Y. Uraoka, Jpn. J. Appl. Phys. 2012, 51, 02BF04.
X. Chen, G. Zhang, J. Wan, T. Guo, L. Li, Y. Yang, H. Wu, C. Liu, Adv. Electron. Mater. 2019, 5, 1800583.
V. Dobrokhotov, L. Oakes, D. Sowell, A. Larin, J. Hall, A. Kengne, P. Bakharev, G. Corti, T. Cantrell, T. Prakash, J. Williams, D. N. McIlroy, J. Appl. Phys. 2012, 111, 044311.
P. Lin, X. Chen, K. Zhang, H. Baumgart, ECS J. Solid State Sci. Technol. 2018, 7, Q246.
S. Cho, D.-H. Kim, B.-S. Lee, J. Jung, W.-R. Yu, S.-H. Hong, S. Lee, Sens. Actuators, B 2012, 162, 300.
J. Y. Park, S.-W. Choi, S. S. Kim, J. Phys. D: Appl. Phys. 2011, 44, 205403.
V. A. T. Dam, M. A. Blauw, S. H. Brongersma, M. Crego-Calama, Proc. Eng. 2010, 5, 172.
S.-W. Choi, J. Y. Park, S. S. Kim, Nanotechnology 2009, 20, 465603.
S. I. Boyadjiev, V. Georgieva, R. Yordanov, Z. Raicheva, I. M. Szilágyi, Appl. Surf. Sci. 2016, 387, 1230.
H. Xie, K. Wang, Z. Zhang, X. Zhao, F. Liu, H. Mu, RSC Adv. 2015, 5, 28030.
U. Singh, H. A. Lee, Y.-C. Byun, A. Kumar, S. Seal, H. Kim, H. J. Cho, Proc. Eng. 2011, 25, 1669.
K. Fan, J. Guo, L. Cha, Q. Chen, J. Ma, J. Alloys Compd. 2017, 698, 336.
F. Güder, Y. Yang, A. Menzel, C. Wang, J. Danhof, K. Subannajui, A. Hartel, D. Hiller, R. Kozhummal, N. S. Ramgir, V. Cimalla, U. T. Schwarz, M. Zacharias, Small 2012, 8, 3307.
D. Yun, G. Seo, W. Lee, S. Yoon, IEEE Trans. Electron Devices 2017, 64, 2350.
C. Guillén, J. Herrero, Thin Solid Films 2011, 520, 1.
S. Chaisitsak, T. Sugiyama, A. Yamada, M. Konagai, Jpn. J. Appl. Phys. 1999, 38, 4989.
Y.-J. Lee, M.-S. Choi, D.-H. Kim, C.-S. Kim, M.-K. Song, J.-W. Kang, Y. Jeong, K.-S. Nam, S.-G. Park, S.-H. Kwon, S. Y. Ryu, J.-D. Kwon, J. Phys. Chem. C 2012, 116, 23231.
S. Vallisree, R. Thangavel, T. R. Lenka, Mater. Res. Express 2018, 6, 025910.
V. A. Coleman, C. Jagadish, in Zinc Oxide Bulk Thin Films Nanostructures (Eds: C. Jagadish, S. Pearton), Elsevier Science Ltd, Oxford 2006, pp. 1-20.
C.-T. Chou, P.-W. Yu, M.-H. Tseng, C.-C. Hsu, J.-J. Shyue, C.-C. Wang, F.-Y. Tsai, Adv. Mater. 2013, 25, 1750.
S. M. George, Chem. Rev. 2010, 110, 111.
E. Ahvenniemi, A. R. Akbashev, S. Ali, M. Bechelany, M. Berdova, S. Boyadjiev, D. C. Cameron, R. Chen, M. Chubarov, V. Cremers, A. Devi, V. Drozd, L. Elnikova, G. Gottardi, K. Grigoras, D. M. Hausmann, C. S. Hwang, S.-H. Jen, T. Kallio, J. Kanervo, I. Khmelnitskiy, D. H. Kim, L. Klibanov, Y. Koshtyal, A. O. I. Krause, J. Kuhs, I. Kärkkänen, M.-L. Kääriäinen, T. Kääriäinen, L. Lamagna, A. A. Łapicki, M. Leskelä, H. Lipsanen, J. Lyytinen, A. Malkov, A. Malygin, A. Mennad, C. Militzer, J. Molarius, M. Norek, Ç. Özgit-Akgün, M. Panov, H. Pedersen, F. Piallat, G. Popov, R. L. Puurunen, G. Rampelberg, R. H. A. Ras, E. Rauwel, F. Roozeboom, T. Sajavaara, H. Salami, H. Savin, N. Schneider, T. E. Seidel, J. Sundqvist, D. B. Suyatin, T. Törndahl, J. R. van Ommen, C. Wiemer, O. M. E. Ylivaara, O. Yurkevich, J. Vac. Sci. Technol., A 2017, 35, 010801.
V. Cremers, R. L. Puurunen, J. Dendooven, Appl. Phys. Rev. 2019, 6, 021302.
M. Putkonen, in Atomic Layer Deposition of Nanostructured Materials, John Wiley & Sons, Ltd, New York 2012, pp. 41-59.
K. Kopalko, A. Wójcik, M. Godlewski, E. Łusakowska, W. Paszkowicz, J. Z. Domagała, M. M. Godlewski, A. Szczerbakow, K. Świątek, K. Dybko, Phys. Status Solidi C 2005, 2, 1125.
K. Kaiya, N. Yoshii, N. Takahashi, T. Nakamura, J. Mater. Sci. Lett. 2000, 19, 2089.
S. J. Yun, K.-H. Lee, J. Skarp, H.-R. Kim, K.-S. Nam, J. Vac. Sci. Technol., A 1997, 15, 2993.
E. Guziewicz, M. Godlewski, T. Krajewski, Ł. Wachnicki, A. Szczepanik, K. Kopalko, A. Wójcik-Głodowska, E. Przeździecka, W. Paszkowicz, E. Łusakowska, P. Kruszewski, N. Huby, G. Tallarida, S. Ferrari, J. Appl. Phys. 2009, 105, 122413.
K. Kobayashi, S. Okudaira, Chem. Lett. 1997, 26, 511.
M. Tammenmaa, T. Koskinen, L. Hiltunen, L. Niinistö, M. Leskelä, Thin Solid Films 1985, 124, 125.
R. O. Donoghue, D. Peeters, D. Rogalla, H.-W. Becker, J. Rechmann, S. Henke, M. Winter, A. Devi, Dalton Trans. 2016, 45, 19012.
T. Tynell, M. Karppinen, Semicond. Sci. Technol. 2014, 29, 043001.
J. Malm, E. Sahramo, J. Perälä, T. Sajavaara, M. Karppinen, Thin Solid Films 2011, 519, 5319.
S. Lee, Y. H. Im, S. H. Kim, Y. B. Hahn, Superlattices Microstruct. 2006, 39, 24.
S. Keun Kim, C. Seong Hwang, S.-H. Ko Park, S. Jin Yun, Thin Solid Films 2005, 478, 103.
K.-Y. Yen, K.-P. Liu, Y.-T. Lin, J.-R. Gong, K.-Y. Tsai, D.-Y. Lyu, T.-Y. Lin, S.-C. Liang, G.-Y. Ni, F.-W. Jih, ECS Trans. 2009, 19, 843.
J. Pilz, A. Perrotta, P. Christian, M. Tazreiter, R. Resel, G. Leising, T. Griesser, A. M. Coclite, J. Vac. Sci. Technol., A 2018, 36, 01A109.
S.-K. Kwon, D.-W. Kim, Y.-H. Jung, B.-J. Lee, J. Korean Phys. Soc. 2009, 55, 999.
S. M. Sultan, O. D. Clark, T. B. Masaud, Q. Fang, R. Gunn, M. M. A. Hakim, K. Sun, P. Ashburn, H. M. H. Chong, Microelectron. Eng. 2012, 97, 162.
S.-H. K. Park, C.-S. Hwang, H.-S. Kwack, J.-H. Lee, H. Y. Chu, Electrochem. Solid-State Lett. 2006, 9, G299.
J. Zhang, H. Yang, Q. Zhang, S. Dong, J. K. Luo, Appl. Surf. Sci. 2013, 282, 390.
M. Jin, J. Jo, G. P. Neupane, J. Kim, K.-S. An, J.-W. Yoo, AIP Adv. 2013, 3, 102114.
D. Kim, H. Kang, J.-M. Kim, H. Kim, Appl. Surf. Sci. 2011, 257, 3776.
Y. Kawamura, N. Hattori, N. Miyatake, M. Horita, Y. Uraoka, Jpn. J. Appl. Phys. 2011, 50, 04DF05.
T. Muneshwar, G. Shoute, D. Barlage, K. Cadien, J. Vac. Sci. Technol., A 2016, 34, 050605.
L. Mai, N. Boysen, D. Zanders, T. de los Arcos, F. Mitschker, B. Mallick, G. Grundmeier, P. Awakowicz, A. Devi, Chem. - Eur. J. 2019, 25, 7489.
L. Mai, M. Gebhard, T. de los Arcos, I. Giner, F. Mitschker, M. Winter, H. Parala, P. Awakowicz, G. Grundmeier, A. Devi, Chem. - Eur. J. 2017, 23, 10768.
H. K. Hofstee, J. Boersma, J. D. van de Meulen, G. J. M. van der Kerk, J. Organomet. Chem. 1978, 153, 245.
J. Dekker, J. Boersma, L. Fernholt, A. Haaland, A. L. Spek, Organometallics 1987, 6, 1202.
D. M. Price, Thermochim. Acta 2001, 367-368, 253.
G. V. Kunte, S. A. Shivashankar, A. M. Umarji, Meas. Sci. Technol. 2008, 19, 025704.
P. O'Brien, J. R. Walsh, A. C. Jones, S. A. Rushworth, C. Meaton, J. Mater. Chem. 1993, 3, 739.
D. R. Stull, Ind. Eng. Chem. 1947, 39, 517.
J. F. Moulder, W. F. Stickle, P. E. Sobol, K. D. Bomben, Handbook of X-Ray Photoelectron Spectroscopy: A Reference Book of Standard Spectra for Identification and Interpretation of XPS Data, Physical Electronics, Eden Prairie, Minnesota 1995.
G. Schön, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1973, 2, 75.
G. E. Hammer, R. M. Shemenski, J. Vac. Sci. Technol., A 1983, 1, 1026.
S. W. Gaarenstroom, N. Winograd, J. Chem. Phys. 1977, 67, 3500.
E. Diler, B. Lescop, S. Rioual, G. Nguyen Vien, D. Thierry, B. Rouvellou, Corros. Sci. 2014, 79, 83.
H.-Y. Lee, B.-K. Wu, M.-Y. Chern, Electron. Mater. Lett. 2014, 10, 51.
G. Malandrino, M. Blandino, L. M. S. Perdicaro, I. L. Fragalà, P. Rossi, P. Dapporto, Inorg. Chem. 2005, 44, 9684.
L. Armelao, D. Barreca, G. Bottaro, A. Gasparotto, D. Leonarduzzi, C. Maragno, E. Tondello, C. Sada, J. Vac. Sci. Technol., A 2006, 24, 1941.
D. Bekermann, A. Ludwig, T. Toader, C. Maccato, D. Barreca, A. Gasparotto, C. Bock, A. D. Wieck, U. Kunze, E. Tondello, R. A. Fischer, A. Devi, Chem. Vap. Deposition 2011, 17, 155.
O. Stenzel, in The Physics of Thin Film Optical Spectra, Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg 2005, pp. 199-228.
M. Gebhard, L. Mai, L. Banko, F. Mitschker, C. Hoppe, M. Jaritz, D. Kirchheim, C. Zekorn, T. de los Arcos, D. Grochla, R. Dahlmann, G. Grundmeier, P. Awakowicz, A. Ludwig, A. Devi, ACS Appl. Mater. Interfaces 2018, 10, 7422.
D. A. Mirabella, C. Buono, C. M. Aldao, D. E. Resasco, Sens. Actuators, B 2019, 285, 232.
L. Mai, D. Zanders, E. Subaşı, E. Ciftyurek, C. Hoppe, D. Rogalla, W. Gilbert, T. de los Arcos, K. Schierbaum, G. Grundmeier, C. Bock, A. Devi, ACS Appl. Mater. Interfaces 2019, 11, 3169.
M. Mayer, SIMNRA User's Guide. Tech. Rep. IPP 9/113, Max-Planck-Institut Für Plasmaphysik, Garching 1997.